鹽霧試驗箱試驗溶液需用氯化鈉和水進(jìn)行配比，金屬的鹽霧腐蝕屬電化學(xué)腐蝕，鹽中雜質(zhì)的多少對鹽霧試驗結果有很大影響，如：NaI過(guò)量時(shí)，無(wú)形中會(huì )增加金屬間的電位差或使金屬形成保護表面，從而影響金屬腐蝕速率;Cu、Ni離子具有加速腐蝕和干擾試驗結果的作用，尤其是Ni鍍層、Cr鍍層，與實(shí)際條件下所得結果的對比性差，使中性鹽霧試驗的可靠性欠佳，因此必須嚴格控制Cu、Ni雜質(zhì)含量。

　　德國大眾和法國PSA的控制內容大致相當，只是雜質(zhì)的總質(zhì)量分數有所不同，二者之間的關(guān)系相當于分析純NaCl與優(yōu)級純NaCl的差異。

　　日產(chǎn)標準的內容與現行的GB1266-2006《化學(xué)試劑 氯化鈉》大致相當，但GB1266-2006僅對碘化物有要求，對Cu、Ni則無(wú)要求。日產(chǎn)標準對鹽霧試驗箱用水的要求極其嚴格，其用水標準相當于GB/T6682-2008《分析實(shí)驗室用水規格和試驗方法》標準中的二級水。這與日產(chǎn)對NaCl中雜質(zhì)含量的要求較為寬松、需要嚴控水中的電導率有關(guān)。鹽霧試驗箱這種苛刻的試驗用水條件將會(huì )大大增加使用日產(chǎn)標準的鹽霧試驗成本。